而是整个市场根本就用不了那么多材料，生产了一炉之后，就直接够全球用上一两年。
贺明军犹豫了一下，EUV光刻机是未来光刻机发展的方向，这点贺明军自然清楚。
ASML在1999年的时候，开始EUV光刻机的研发工作，计划在2004年的时候推出产品。
可事实上，在2010年的才搞出第一台EUV原型机！
看起来研发时间很长对吧！
是不是会觉得，EUV光刻机的研发特别的艰难，人家花了十一年的时间才给搞出来，而且还是原型机。
到现在什么时候开始真正向下游客户供货，都还不知道。
这里必须得要说一个问题，ASML研发EUV光刻机，只是企业在技术路线上面的一个选择罢了。
没有人知道，什么技术路线才是能够最终走向成功。
所以对于企业来讲，最为稳妥的办法是什么？
那当然是多选择几条路线来走。
EUV光刻机的研发是米国在上世纪末牵头搞的，为的跨越193nm。
当时在半导体行业，芯片制程工艺在193纳米这卡住了。
当时，自然给出了好些技术路线方桉，而EUV属于其一，同时英特尔也坚决选择了EUV这个技术路线。
最开始的时候，EUV光刻机的研发，ASML并没有将所有资源全部给押上，还在保持其他技术路线的研发。
随着所以，EUV光刻机研发时间才会进展缓慢。
既然知道了这个，对于陈伟对EUV光刻机研发成功有信心，就不足为奇了。